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主要功能：

采用離子注入、離子刻蝕和磁過濾等離子體沉積相結合，在聚酰亞胺薄膜（PI）表面直接一步法沉積納米級金屬復合層，再進行電鍍增厚。覆銅板厚度可精確控制和調節(jié)，克服了傳統(tǒng)壓合法無法制備超薄撓性覆銅板的缺點。設備獨創(chuàng)卷到卷雙腔室連續(xù)卷繞系統(tǒng)，實現(xiàn)了撓性聚酰亞胺薄膜雙面連續(xù)注入沉積功能薄膜。