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鉛屏蔽箱體整體結(jié)構(gòu)

外圍幾何尺寸：W3185mm×H2042mm×D1800mm，不包含風(fēng)冷式水冷機(jī)組和空壓機(jī)，噪音≤56dB。

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真空室

Φ600mm×800mm，臥式安裝，單層304不銹鋼，左上設(shè)置高能氣體離子源、右上測(cè)設(shè)置高能金屬離子源，真空室底部設(shè)置分子泵管道法蘭接口、接真空抽氣系統(tǒng)管道，前后兩端平板門可全開(kāi)、前后兩端平板門中心設(shè)置觀察窗；極限真空壓強(qiáng)＜2×10^-4Pa，系統(tǒng)漏率＜1×10-9Pam³/S，壓升率＜0.5Pa/h。

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高能氣體離子源

10KeV～70KeV，束斑直徑Φ100mm，在Φ100mm束斑直徑范圍內(nèi)離子流可達(dá)5mA，離子束流不均勻性小于±15%；具有注入劑量檢測(cè)和控制。

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高能金屬離子源

加速電壓10KeV～50KeV，束斑直徑Φ100mm，在Φ100mm束斑直徑范圍內(nèi)離子流可達(dá)5mA，離子束流不均勻性＜±15%。具有陰極自動(dòng)推進(jìn)功能；具有注入劑量檢測(cè)和控制；可精確控制注入時(shí)間(秒量級(jí))。

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移動(dòng)式樣品平臺(tái)架

直徑Φ100mm，具有加熱和冷卻功能?？筛鼡Q加熱和冷卻樣品臺(tái)臺(tái)面。可前后平移定位于離子源正下方。在冷卻工作方式下，樣品臺(tái)可通入冷卻水(水溫5℃～25℃，由冷水機(jī)控溫)。在加熱工作方式下，樣品臺(tái)用鹵素?zé)艏訜?，最高加熱溫?00℃，用溫度控制儀調(diào)節(jié)溫度，用熱偶檢測(cè)加熱樣品臺(tái)背面溫度。

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控制系統(tǒng)

PLC+觸摸屏

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離子能量

≤100KeV

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離子劑量

≥1×1017/cm² h

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離子類型

N、C、H、Ti、Ag……

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供電要求

三相五線制50Hz/60Hz、3×AC380V(±5%)-N＋PE，功率15KVA。具備獨(dú)立高壓接地體，接地電阻≤1Ω

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環(huán)境要求

溫度：0℃～40℃；濕度：＜90%相對(duì)濕度，無(wú)冷凝水或結(jié)冰；冷卻空氣：不含腐蝕性蒸汽、顆粒、導(dǎo)電顆粒及吸潮后變成導(dǎo)電的顆粒；冷卻水：配風(fēng)冷式水冷機(jī)組，進(jìn)水溫度20℃～25℃，進(jìn)出水壓差0.15MPa～0.3MPa，冷卻水應(yīng)使用軟化水避免結(jié)垢，冷卻管道應(yīng)連接牢固避免泄漏，工作時(shí)必須保持冷卻水暢通。